flash memories; integrated memory circuits; semiconductor-insulator-semiconductor devices; hafnium compounds; aluminium compounds; silicon compounds; charge trapping layer; nonvolatile memory device; charge storage layer; SONOS-type memory; polysilicon-oxide-silicon nitride-oxide-silicon; SiO/sub 2//high-K/SiO/sub 2/ structure; charge retention; program/erase mechanisms; HfAlO; SiO/sub 2/; HfO/sub 2/; Al/sub 2/O/sub 3/;
机译:HfAlO电荷陷阱层中具有最佳Al掺杂的新型SONOS型非易失性存储设备
机译:使用HfAlO复合氧化物薄膜增强SONOS型非易失性存储器中的电荷俘获性能
机译:HfO_2 / HfAlO / HfO_2纳米层压电荷陷阱层,用于高性能非易失性存储设备应用
机译:SONOS型非易失性存储器件中用于高速操作的High-k HfAlO电荷捕获层
机译:电荷捕获非易失性半导体存储器件的设计,表征和建模。
机译:半导体:基于并五苯/ P13 /并五苯作为电荷传输层和陷阱层的有机半导体异质结构的高性能非易失性有机场效应晶体管存储器(Adv。Sci。8/2017)
机译:具有硅纳米晶体的镧氟化物电荷俘获层,用于非易失性存储器件应用