Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Drive, Rolla, MO 65401 USA;
157 nm; BARC; anti-reflective coating; lithography;
机译:了解界面附近光刻图案的偏差:底部抗反射涂层(BARC)和BARC抗蚀剂界面的表征
机译:适用于193和157 nm光刻应用的低碱性污染底部抗反射涂层
机译:用于157 nm光刻的有机底部抗反射涂层的研究
机译:用于157 nm光刻的底部抗反射涂层(BARC)
机译:光学设备和涂层的干涉光刻。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:用于DUV光刻的底部抗反射涂层。