首页> 中文会议>2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛 >光刻胶用底部抗反射涂层研究进展

光刻胶用底部抗反射涂层研究进展

摘要

随着微电子工业的蓬勃发展,集成电路向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效地消除光刻胶技术中的驻波效应、凹缺效应,提高临界尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注.本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况.重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究.最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号