公开/公告号CN110998446A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-04-10
原文格式PDF
申请/专利权人 SK新技术株式会社;SK 综合化学株式会社;
申请/专利号CN201880049505.3
申请日2018-07-04
分类号
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;
代理人刘成春
地址 韩国首尔
入库时间 2023-12-17 11:24:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/09 申请日:20180704
实质审查的生效
2020-04-10
公开
公开
机译: 具有提高的湿剥离速率的底部抗反射涂层,用于形成底部抗反射涂层的底部抗反射涂层组合物及其制造方法
机译: 用于形成底部抗反射涂层的聚合物和用于形成底部抗反射涂层的组合物
机译: 用于形成底部抗反射膜的聚合物,用于形成包含相同膜的底部抗反射膜的组合物以及用于使用该膜形成底部抗反射膜的方法