减少底部抗反射涂层(BARC)的缺陷:对优化与分离过滤过程和打胶过程的研究

摘要

半导体器件制造业是当今世界上最清洁的制造业之一.在当今最先进的晶圆厂当中,所有的物质都被过滤到最小的粒径.这种做法对气体来说是相当容易的,但是过滤液体时相对较难,特别是光化学物质,如底部抗反射涂层(BARC),过滤器可能会出现堵塞、过滤速率下降的问题,进而导致通过过滤器的压降增加,或者过滤器退化.论文采用三种不同的底部抗反射涂层,基于泵中的不同粒径的过滤介质,并分别采用不同的速率,研究打胶过程和过滤过程的相互作用.