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机译:用于DUV光刻的底部抗反射涂层。
Wen-Bing Kang; Hatsuyuki Tanaka; Ken Kimura; Munirathna Padmanaban; Satoru Funato; Yoshiaki Kinoshita; Takanori Kudo; Yuko Nozaki; Georg Pawlowski;
机译:了解界面附近光刻图案的偏差:底部抗反射涂层(BARC)和BARC抗蚀剂界面的表征
机译:底部抗反射涂层的光化学研究
机译:铜双镶嵌互连的电介质底部抗反射涂层
机译:底部抗反射涂层BRAC设计的基本原理,可成功集成到I线和DUV制造中
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:用于CIGS太阳能电池的防反射涂层的实时优化
机译:有机底部抗反射涂层的最新进展。
机译:用于深紫外(DUV)光刻的显影剂可溶的底部抗反射涂料组合物以及使用该方法制备图案材料的过程
机译:用于形成底部抗反射涂层的聚合物和用于形成底部抗反射涂层的组合物
机译:用于有机底部抗反射涂料的聚合物和包含该聚合物的底部抗反射涂料组合物
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