机译:了解界面附近光刻图案的偏差:底部抗反射涂层(BARC)和BARC抗蚀剂界面的表征
Sandia National Laboratories, P.O. Box 5800 MS0888, Albuquerque, NM 87185, United States;
anti-reflective coating; photolithography; footing; undercutting; BARC; photoresist; lithography; interface;
机译:不同烘烤温度和厚度的底部抗反射涂层对纳米级图案的影响
机译:激光干涉光刻研究底部减反射涂层对纳米图形的影响
机译:防反射涂层:界面的故事
机译:新一代底部抗反射涂层(BARC):可光定义的BARC
机译:固体氧化物燃料电池涂层互连接口和阳极电解质接口的机械特性
机译:了解纳米生物界面:无机纳米粒子的脂质涂层作为生物医学应用的有前途的策略。
机译:有机底部抗反射涂层的最新进展。
机译:新型界面纤维涂层表征C / siC陶瓷基复合材料(CmCs)