机译:有机底部抗反射涂层的最新进展
机译:用于193 nm受激准分子激光光刻的新型有机底部抗反射涂料
机译:不同烘烤温度和厚度的底部抗反射涂层对纳米级图案的影响
机译:Steven Welch,Ingrid Peterson,Oreste Donzella,Tony Dibiase,KLA-Tencor Corp对有机底部抗反射涂层(BARC)的工艺考虑对有机Botton抗反射涂层的工艺考虑BARC对前端和后端的优化离线整合
机译:防腐有机/无机杂化涂料。
机译:凹版印刷薄有机电介质的高性能柔性底栅有机场效应晶体管
机译:可开发的底部抗反射涂层(DBarc)的进展和挑战