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使用具有分等级的光学性质的底部抗反射涂层来执行光刻的方法

摘要

本发明提供的是使用具有分等级的光学性质的BARC的光刻方法。在示例性的实施方式中,光刻方法包含如下步骤,即,使上覆于待图案化的材料的BARC沉积,该BARC具有折射率和吸光度。修改该BARC,以便在该修改步骤之后,该折射率和该吸光度的值从在该BARC的第一表面处的第一值到在该BARC的第二表面处的第二值分等级。该修改步骤在该沉积步骤之后执行。

著录项

  • 公开/公告号CN102227683B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 超威半导体公司;

    申请/专利号CN200980147846.5

  • 发明设计人 托马斯·I·瓦洛;容沃尔克·基;

    申请日2009-10-21

  • 分类号

  • 代理机构上海胜康律师事务所;

  • 代理人周文强

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-31

    授权

    授权

  • 2011-12-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/09 申请日:20091021

    实质审查的生效

  • 2011-10-26

    公开

    公开

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