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机译:用于高NA浸没光刻的渐变旋涂式有机底部抗反射涂层
193-nm lithography; chemically amplified resists;
机译:用于高NA浸没光刻的渐变旋涂式有机底部抗反射涂层
机译:新型旋涂式硬掩模,带有含硅的底部抗反射涂层,用于纳米光刻
机译:超数值孔径光刻中提高分辨率的技术和双层底部减反射涂层的优化
机译:高Na光刻的渐变旋转有机底抗反射涂层
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:防反射涂层:常规堆叠层和超薄等离子超表面迷你回顾
机译:由纳米多孔有机改性的二氧化硅胶体制成的柔性且机械稳定的抗反射涂层