Institute of Integrated Micro and Nano Systems, School of Engineering and Electronics, Scottish Microelectronics Centre, The University of Edinburgh, Kings Buildings, Edinburgh, EH9 3JF, UK;
Nikon Precision Europe GmbH, Appleton Place, Appleton Parkway, L;
mask metrology; optical proximity correction; electrical measurement;
机译:电气测试结构,用于表征光学邻近校正
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:用于光学邻近校正的表征的电气测试结构
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:使用光电特性监测P3HT-纳米管复合材料中的电荷交换
机译:用于光学邻近校正的表征的电气测试结构