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王国雄; 史峥; 严晓浪; 陈志锦; 付萍;
浙江大学,超大规模集成电路设计研究所,浙江,杭州,310027;
鞍山科技大学,电子与信息工程学院,辽宁,鞍山,114002;
华东地质学院,信息工程系,江西,抚州,344000;
光刻仿真; 光学邻近校正; 可变阈值光刻胶模型;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:适用于14纳米及以上节点的光学邻近校正模型中的精确掩模模型实现
机译:高性能0.18μm工艺的可变阈值光学邻近校正(OPC)模型
机译:氮化硅可变形反射镜,用于微光学系统中的聚焦和球差校正。
机译:通过自适应光学像差校正可降低水眼模型中飞秒激光引起的光学击穿的阈值能量
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发
机译:用于VIs-sWIR多光谱和高光谱成像传感器的大气校正和气溶胶光学特性检索的新方法:QUaC(快速大气校正)
机译:用于光学邻近校正的设备,用于光学邻近校正的方法以及用于光学邻近校正的计算机程序产品
机译:利用光学邻近校正曝光图案的曝光方法,用于产生光学邻近校正曝光数据的设备和用于光学邻近校正曝光数据的曝光设备
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