光学光刻中的邻近效应校正新方法研究

摘要

光学光刻中的邻近效应杰严重降低光刻图形的质量，是妨碍大规模集成电路高集成度发展的一个重要原因，光学邻近校正已成为亚微米光刻掩模优化设计的必备工具。在该文中，基于波前加工的思想。我们提出了两种邻近效应校正的新方法，并给出了较好的实验结果，为邻近效应精细校正提供了新途径。