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电子束光刻中邻近效应校正的几种方法

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摘要

本文简要介绍了限制电子束光刻分辨率的主要因素之一-邻近效应的产生机制,列举了校正邻近效应的GHOST法、图形区密集度分布法和掩模图形形状改变法,介绍了每种方法的原理、步骤和效果,比较了它们各自的优缺点.

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来源
《电子显微学报》 |2005年第5期|464-468|共5页
作者
肖沛; 孙霞; 闫继红; 丁泽军;
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作者单位

中国科技大学结构分析重点实验室,物理系,安徽,合肥,230026;

中国科技大学结构分析重点实验室,物理系,安徽,合肥,230026;

合肥学院数学与物理系,安徽,合肥,230026;

中国科技大学结构分析重点实验室,物理系,安徽,合肥,230026;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类制造工艺;干法腐蚀工艺;半导体器件制造工艺及设备;
关键词
电子束光刻; 邻近效应;

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