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Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II
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1.
X-ray optics design a
机译:
X射线光学设计
作者:
Argyrios Doumas
;
Grumman Aerospace Corp.
;
Smithtown
;
NY
;
USA
;
Stephen Kovacs
;
Grumman Aerospace Corp.
;
Stony Brook
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
2.
Single-cycle lithography process for both large and sub-half-micron features (Poster Paper)
机译:
适用于大和亚半微米特征的单周期光刻工艺(海报纸)
作者:
James S. Sewell
;
Air Force Wright Lab.
;
Kettering
;
OH
;
USA
;
Christopher A. Bozada
;
Air Force Wright Lab.
;
Wright-Patterson AFB
;
OH
;
USA
;
Mercy H. Styrcula
;
Air Force Wright Lab.
;
Wright-Patterson AFB
;
OH
;
USA
;
William E. Davis
;
Air Force Wright Lab.
;
Wrig
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
3.
Scanning tunneling microscope lithography: a viable lithographic technology?
机译:
扫描隧道显微镜光刻:可行的光刻技术?
作者:
Christie R. Marrian
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Elizabeth A. Dobisz
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
J.A. Dagata
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
4.
Practical evaluation of 16M-DRAMs production with i-line phase-shift lithography
机译:
使用i-line相移光刻技术对16M-DRAM生产进行实际评估
作者:
Akihiro Usujima
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan
;
Ryuji Tazume
;
Kyusyu Fujitsu Electronics Ltd.
;
Satsuma-gun
;
Kagoshima
;
Japan
;
Tatsuji Araya
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan
;
Yoshimi Shioya
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan
;
Kazumasa Shigem
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
5.
Practical tolerancing and performance implications for XUV projection lithography reduction systems (Poster Paper)
机译:
XUV投影光刻减少系统的实际公差和性能影响(海报)
作者:
Vriddhachalam K. Viswanathan
;
Los Alamos National Lab.
;
Los Alamos
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
6.
Optimization of partially coherent illumination in x-ray lithography (Poster Paper)
机译:
X射线光刻中部分相干照明的优化(海报纸)
作者:
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Jerry Z. Guo
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
7.
Novel surface imaging process with ion-beam lithography and dry development
机译:
具有离子束光刻和干法显影的新型表面成像工艺
作者:
Ulrich A. Jagdhold
;
Institut fuer Halbleiterphysik Frankfurt
;
Frankfurt (Oder)
;
Federal Republic of Germany
;
Wolfgang Pilz
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik
;
Berlin 3
;
Federal Republic of Germany
;
L.M. Buchmann
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikro
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
8.
MEBES IV: a new-generation raster-scan electron-beam lithography system
机译:
MEBES IV:新一代的光栅扫描电子束光刻系统
作者:
Frank E. Abboud
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
John T. Poreda
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
R.L. Smith
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
9.
Model and measurement of resist heating effect in EBL (Poster Paper)
机译:
EBL中的抗蚀剂加热效果的模型和测量(海报纸)
作者:
Sergei V. Babin
;
Institute of Microelectronics Technology
;
Moscow
;
Russia
;
Ivan Kostic
;
Institute of Technical Cybernetics
;
Bratislava
;
Czechoslovakia
;
A.A. Svintsov
;
Institute of Microelectronics Technology
;
Chernogolovka
;
Moscow District
;
Russia.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
10.
Mix-and-match lithography in a manufacturing environment
机译:
制造环境中的混搭光刻
作者:
Warren W. Flack
;
TRW
;
Inc.
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
David H. Dameron
;
TRW
;
Inc.
;
Manhattan Beach
;
CA
;
USA
;
Valerie J. Alameda
;
TRW
;
Inc.
;
Redondo Beach
;
CA
;
USA
;
Ghassan C. Malek
;
TRW
;
Inc.
;
Redondo Beach
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
11.
Microstructural gated field emission sources for electron-beam a
机译:
电子束a的微结构门控场发射源
作者:
Gary W. Jones
;
Microelectronics Ctr. of North Carolina
;
Research Triangle Park
;
NC
;
USA
;
Ching T. Sune
;
Microelectronics Ctr. of North Carolina
;
Research Triangle Park
;
NC
;
USA
;
Susan K. Jones
;
Microelectronics Ctr. of North Carolina
;
Research Triangle Pa
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
12.
Implementation of two-state alignment system into CXrL aligner (Poster Paper)
机译:
在CXrL对准器中实现二态对准系统(海报纸)
作者:
Guan J. Chen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
D.Bodoh
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
John P. Wallace
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Paul D. Anderson
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Micha
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
13.
Impact of CD control on circuit yield in submicron lithography
机译:
CD控制对亚微米光刻中电路成品率的影响
作者:
Linda Milor
;
Univ. of Maryland/College Park
;
College Park
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
14.
keV x-ray source based on high-repetition-rate excimer-laser-produced plasmas (Poster Paper)
机译:
基于高重复频率的准分子激光产生的等离子体的keV x射线源(海报纸)
作者:
Robert Fedosejevs
;
Univ. of Alberta
;
Edmonton
;
Alberta
;
Canada
;
Romuald Bobkowski
;
Univ. of Alberta
;
Edmonton
;
Alberta
;
Canada
;
James N. Broughton
;
Univ. of Alberta
;
Varennes
;
Quebec
;
Canada
;
B.Harwood
;
Univ. of Alberta
;
Edmonton
;
Alberta
;
Canada.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
15.
Electron-beam lithography of optical elements for x-ray range (Poster Paper)
机译:
用于x射线范围的光学元件的电子束光刻(海报纸)
作者:
Sergei V. Babin
;
Institute of Microelectronics Technology
;
Moscow
;
Russia
;
Alexei I. Erko
;
Institute of Microelectronics Technology
;
Chernogolovka
;
Moscow District
;
Russia.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
16.
Effects of mounting imperfections on an x-ray lithography mask (Poster Paper)
机译:
安装缺陷对X射线光刻掩模的影响(海报纸)
作者:
Daniel L. Laird
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Roxann L. Engelstad
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
17.
Effect of stitching errors on the performance of DFB lasers fabricated using e-beam lithography (Poster Paper)
机译:
拼接误差对使用电子束光刻制造的DFB激光器性能的影响(海报纸)
作者:
Torgil Kjellberg
;
Chalmers Univ. of Technology
;
Goteborg
;
Sweden
;
Richard Schatz
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
;
Sweden
;
Stefan Nilsson
;
Swedish Institute of Microelectronics
;
Kista
;
Sweden
;
Bjorn Broberg
;
Swedish Institute of Microelectronics
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
18.
EB lithography for fabricating a GHz SAW filter on LiTaO3 substrate (Poster Paper)
机译:
EB光刻技术,用于在LiTaO3衬底上制造GHz SAW滤波器(海报纸)
作者:
Takeo Nagata
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
M.M. Kobayashi
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Kinjiro Kosemura
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
M.Y. Satoh
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
Moritoshi Ando
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi
;
Japan
;
T.Mi
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
19.
E-beam lithography at low voltages
机译:
低压电子束光刻
作者:
Yuhey Lee
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Raymond Browning
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
R.F. Pease
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
20.
Design of synchrotron x-ray lithography beamlines
机译:
同步加速器X射线光刻光束线的设计
作者:
James M. Oberschmidt
;
IBM General Technology Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Robert P. Rippstein
;
IBM General Technology Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Raymond R. Ruckel
;
IBM General Technology Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Alek C. Chen
;
IBM Gene
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
21.
Development of XUV projection lithography at 60-80 nm (Poster Paper)
机译:
XUV投影光刻技术在60-80 nm的发展(海报纸)
作者:
Brian E. Newnam
;
Los Alamos National Lab.
;
Los Alamos
;
NM
;
USA
;
Vriddhachalam K. Viswanathan
;
Los Alamos National Lab.
;
Los Alamos
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
22.
Comparative evaluation of e-beam charge-reducing processes
机译:
电子束减费过程的比较评估
作者:
Gilles R. Amblard
;
CNET-CNS/France Telecom
;
Meylan Cedex
;
France
;
Laurent A. Guerin
;
CNET-CNS/France Telecom
;
Meylan
;
Cedex
;
France
;
Frederic P. Lalanne
;
CNET-CNS/France Telecom
;
Meylan
;
Cedex
;
France
;
Jean-Pierre Panabiere
;
CNET-CNS/France Telecom
;
Meyla
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
23.
Chromatic and spherical aberration correction in axially symmetric electrostatic lenses
机译:
轴对称静电透镜中的色差和球差校正
作者:
Ivan L. Berry
;
Dept. of Defense/Microelectronics Research Lab.
;
Columbia
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
24.
Alignment and overlay accuracy of an advanced x-ray stepper using animproved alignment system (Poster Paper),
机译:
使用改进的对准系统(海报纸)的高级X射线步进器的对准和覆盖精度,
作者:
F.Gabeli
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik
;
Muenchen Garching
;
Federal Republic of Germany
;
Hans L. Huber
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik
;
Berlin 3
;
Federal Republic of Germany
;
A.Kucinski
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostruktu
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
25.
X-ray dose density: a new radiation damage modeling tool (Poster Paper)
机译:
X射线剂量密度:一种新的辐射损伤建模工具(海报纸)
作者:
F.Baszler
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Mumit Khan
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
26.
Why bother with x-ray lithography?
机译:
为什么要麻烦X射线光刻?
作者:
Henry I. Smith
;
Massachusetts Institute of Technology
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Mark L. Schattenburg
;
Massachusetts Institute of Technology
;
Cambridge
;
MA
;
USA.
会议名称:
《》
|
1992年
27.
Spherical pinch x-ray generator (SPX II): prototype performance for x-ray lithography (Poster Paper)
机译:
球形捏合X射线发生器(SPX II):X射线光刻的原型性能(海报纸)
作者:
Shridar Aithal
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
Quebec
;
Canada
;
Kenji Kawai
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
Quebec
;
Canada
;
M.Lamari
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
Quebec
;
Canada
;
Emilio Panarella
;
Advanced Las
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
28.
Study of large-field beryllium window for SR lithography (Poster Paper)
机译:
SR光刻大视野铍窗的研究(海报)
作者:
Kouichi Hara
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Tohru Itoh
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
29.
Study of single-layer e-beam lithography for x-ray mask making
机译:
单层电子束光刻技术在X射线掩模制作中的研究
作者:
Yukiko Kikuchi
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yuji Takigami
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Ichiro Mori
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yoshio Gomei
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
30.
Resist optimization for SOR x-ray lithography using an orthogonal experimental design
机译:
使用正交实验设计对SOR X射线光刻进行抗蚀剂优化
作者:
Whitson G. Waldo
;
Motorola
;
Inc.
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Ahmad D. Katnani
;
IBM Corp.
;
Poughkeepsie
;
NY
;
USA
;
Harbans S. Sachdev
;
IBM Corp.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
31.
Resist cross-sectioning using focused ion beams
机译:
使用聚焦离子束的抗截面
作者:
Michael J. Vasile
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
32.
Simulation fidelity in microlithography
机译:
微光刻中的仿真保真度
作者:
Eytan Barouch
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Uwe Hollerbach
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Steven A. Orszag
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Martin C. Peckerar
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Milton Rebbert
;
Naval Research La
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
33.
Advanced e-beam systems for manufacturing
机译:
先进的电子束制造系统
作者:
Hans Pfeiffer
;
IBM East Fishkill Facility
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
34.
Production of x-ray mask blanks for a point source ste
机译:
用于点光源Ste的X射线光罩毛坯的生产
作者:
Lee E. Trimble
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
George K. Celler
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
John Frackoviak
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
J.A. Liddle
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Gary R. Weber
;
ATT Bell L
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
35.
Performances of the CXrL x-ray beamlines (Poster Paper)
机译:
CXrL X射线束线的性能(海报纸)
作者:
Richard K. Cole
;
III
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Paul D. Anderson
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Gregory M. Wells
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
E.Brodsky
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
36.
Low-damage anisotropic radical-beam ion-beam etching and selective chemical etching of focused-ion-beam-damaged GaAs substrates
机译:
聚焦离子束损伤的GaAs衬底的低损伤各向异性自由基束离子束刻蚀和选择性化学刻蚀
作者:
Jay A. Skidmore
;
Univ. of California/Santa Barbara
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA
;
Guy D. Spiers
;
Univ. of California/Santa Barbara
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
John H. English
;
Univ. of California/Santa Barbara
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA
;
Zheng Xu
;
Univ. of Califo
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
37.
Focused-ion-beam repair of phase-shift photomasks
机译:
相移光罩的聚焦离子束修复
作者:
Lloyd R. Harriott
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Joseph G. Garofalo
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Robert L. Kostelak
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
38.
Focused-ion-beam cross-sectioning techniques using XeF2
机译:
使用XeF2的聚焦离子束截面技术
作者:
Diane K. Stewart
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
Michael J. Vasile
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
39.
Finite element analysis of dynamic thermal distortions of an x-ray mask for synchrotron radiation lithography
机译:
同步辐射光刻用X射线掩模动态热变形的有限元分析
作者:
Eric A. Haytcher
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Roxann L. Engelstad
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
N.M. Schnurr
;
Los Alamos National Lab.
;
Los Alamos
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
40.
Electron-beam lithography system for high-precision reticle making
机译:
高精度光罩制作的电子束光刻系统
作者:
Takashi Matsuzaka
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroya Ohta
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Norio Saitou
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Katsuhiro Kawasaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Katsuta-shi
;
Ibaraki-ken
;
Japan
;
Kazumitsu Nakamura
;
H
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
41.
Evaluation of a laser-based proximity x-ray ste
机译:
评估基于激光的近距离X射线摄影机
作者:
George K. Celler
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
John Frackoviak
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Richard R. Freeman
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Charles W. Jurgensen
;
ATT Bell Labs.
;
Somerville
;
NJ
;
USA
;
R.R. Kola
;
AT
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
42.
Computational method for the correction of proximity effect in electron-beam lithography (Poster Paper)
机译:
校正电子束光刻中邻近效应的计算方法(海报纸)
作者:
Chih-Yuan Chang
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Geraint Owen
;
Stanford Univ.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA
;
R.F. Pease
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Thomas Kailath
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
43.
Analysis of diffraction intensities in the Fresnel region for the x-ray lithography process optimization (Poster Paper)
机译:
分析菲涅耳区的衍射强度以优化X射线光刻工艺(海报纸)
作者:
Hyung J. Yoo
;
Electronics
;
Telecommunications Research Institute
;
Daejeon
;
South Korea.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
44.
ALF: a facility for x-ray lithography (II): a progress report
机译:
ALF:x射线光刻设备(II):进度报告
作者:
L.G. Lesoine
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Kenneth W. Kukkonen
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Jeffrey A. Leavey
;
IBM East Fishkill
;
Hopewell
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
45.
Alignment and overlay accuracy of an advanced x-ray stepper using an improved alignment system (Poster Paper)
机译:
使用改进的对准系统的高级X射线步进机的对准和覆盖精度(海报纸)
作者:
Author(s): F.Gabeli Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik Muenchen Garching Federal Republic of Germany
;
Hans L. Huber Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik Berlin 33 Federal Republic of Germany
;
A.Kucinski Fraunhofer-Institut fuer
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
46.
Manufacturing implementation of deep-UV lithography for 500-nm devices
机译:
用于500 nm器件的深紫外光刻的制造实现
作者:
Author(s): Steven J. Holmes IBM General Technology Div. Essex Junction VT USA
;
Albert S. Bergendahl IBM General Technology Div. Jericho VT USA
;
Diana D. Dunn IBM General Technology Div. Essex Junction VT USA
;
J.Guidry IBM General Technology D
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II》
|
1992年
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