机译:在化学辅助离子束刻蚀系统中GaAs和GaN刻蚀行为的比较
机译:通过化学辅助离子束刻蚀制造的InGaAs-GaAs应变层多量子阱激光器的高速调制
机译:通过各向异性化学刻蚀,阳极刻蚀和阳极氧化制备高纵横比的多孔砷化镓及其结构
机译:低损伤各向异性自由基束离子束蚀刻和聚焦离子束损坏的GAAs基材的选择性化学蚀刻
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制备的三角形孔阵列
机译:具有不同al摩尔分数的al(x)Ga(1-x)as基板的HCl,H2和Cl2自由基束离子束蚀刻