机译:用于电子束光刻中的邻近效应校正的点扩展函数的实验评估方法
Nanofabrication Laboratory, Department of Microtechnology and Nanoscience, MC2, Chalmers University of Technology, SE-4J2 96 Gothenburg, Sweden;
机译:点扩展函数精度对低压电子束直接写入光刻中图形预测和邻近效应校正的影响
机译:电子束光刻中基于简化电子能流模型的3D邻近效应校正
机译:通过改进的接近效应校正通过电子束光谱制造Si光子波导
机译:电子束散射参数提取方法在直写式电子束光刻中的邻近校正中的应用
机译:亚微米电子束光刻的计算机可视化和邻近效应校正
机译:Voxel传播功能(VSF)方法用于校正定量梯度回波的MRI中的磁场不均匀性效应
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造
机译:电子束光刻的邻近效应校正程序