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致谢
摘要
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表格列表
1 绪论
1.1 信息社会与集成电路
1.2 集成电路的生产制造
1.3 光刻技术及其挑战
1.3.1 印刷术和石板印刷术的历史
1.3.2 应用于集成电路生产的光刻技术
1.3.3 光刻技术面临的挑战
1.4 分辨率增强技术
1.4.1 分辨率和焦深
1.4.2 移相掩模技术
1.4.3 离轴照明技术
1.4.4 浸润式光刻
1.4.5 多重成像
1.5 论文的研究内容及创新点
1.6 论文的组织结构
1.7 本章小结
2 光学邻近校正技术
2.1 引言
2.2 光学邻近效应
2.2.1 特征尺寸相关的光学邻近效应
2.2.2 实际版图图形的光学邻近效应
2.3 基于规则的光学邻近校正技术
2.3.1 对各种光学邻近效应的校正方法
2.3.2 规则的匹配
2.4 基于模型的光学邻近校正技术
2.4.1 光刻仿真
2.4.2 图形切割
2.4.3 边的平移校正
2.4.4 层次结构处理
2.5 本章小结
3 一维版图的快速光刻仿真
3.1 引言
3.2 一维版图设计规则
3.3 光刻系统模型
3.3.1 光刻成像系统
3.3.2 部分相干光成像模型
3.3.3 基于卷积核的快速点光强计算
3.4 集成电路版图
3.5 一维版图的快速平面光学仿真
3.5.1 一维基元函数
3.5.2 查找表的建立
3.5.3 大面积版图的光学仿真
3.6 实验结果
3.6.1 查找表建立时间
3.6.2 基本图形仿真比较
3.6.3 大面积版图仿真比较
3.7 本章小结
4 光学邻近校正的切割
4.1 引言
4.2 版图复杂度与掩模板的生产成本
4.3 传统的切割以及整边校正
4.3.1 传统的切割方式
4.3.2 整边校正
4.4 版图中的关键点及其切割策略
4.4.1 晶体管
4.4.2 互连线
4.4.3 通孔
4.5 关键点图形的识别
4.5.1 图形布尔运算
4.5.2 自身图形分类
4.5.3 图形环境识别
4.5.4 完整的基于成品率的切割流程
4.6 实验结果
4.7 本章小结
5 光学邻近校正中的层次结构处理
5.1 引言
5.2 传统的全版图校正方法
5.2.1 扁平化的全版图校正方法
5.2.2 基于单元的光学邻近校正
5.3 混合式层次结构处理
5.3.1 阵列式模块电路的层次结构处理
5.3.2 随机逻辑电路的层次结构处理
5.3.3 混合式版图的层次结构赴理
5.4 实验结果
5.5 本章小结
6 总结与展望
6.1 论文总结
6.2 工作展望
参考文献
作者简历及攻读学位期间取得科研成果