电子束聚焦设备及使用该设备的电子束投影光刻系统

摘要

一种电子束聚焦设备在电子束投影光刻系统中控制由发射器发射的电子束的路径，该设备有：顶部磁铁和底部磁铁，放在装晶片真空室的上面和下面，顶部磁铁和底部磁铁产生真空室内的磁场；上部磁极片和下部磁极片，从真空室顶部和底部伸出，与顶部磁铁和底部磁铁磁性地接触；及上部环形伸出部和下部环形伸出部，从上部磁极片和下部磁极片相互面对的表面上伸出。所述光刻系统包括：围出一放置一晶片空间的真空室；发射器，它在真空室内以预定距离对着晶片分开地设置，发射电子束到晶片上；及有上述结构的电子束聚焦设备。电子束聚焦设备及使用该设备的所述影光刻系统能在晶片和电子束发射器之间提供均匀的电/磁场并减小由于真空室振动引起的电子束路径的弯曲。