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一种任意衬底上单晶AlN薄膜体声波谐振器

摘要

本实用新型公开了一种任意衬底上单晶AlN薄膜体声波谐振器。该谐振器包括:衬底、硅腔、单晶二维材料、Al缓冲层、第一金属电极、压电层及第二金属电极;所述衬底与单晶二维材料连接,衬底与单晶二维材料的连接面向衬底内凹陷形成硅腔;Al缓冲层沉积在所述单晶二维材料上,第一金属电极生长在Al缓冲层上;压电层与第一金属电极、单晶二维材料连接;第二金属电极沉积在压电层上。本实用新型将基于单晶AlN压电堆叠结构用于薄膜体声波谐振器的制备中,单晶AlN薄膜在压电性能上优于目前薄膜体声波谐振器中应用到的多晶AlN压电薄膜,从而提高器件的品质因数和有效机电耦合系数。同时避免了单晶AlN谐振器对衬底的严格要求。

著录项

  • 公开/公告号CN215268208U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN202023206561.7

  • 申请日2020-12-24

  • 分类号H03H3/02(20060101);H03H9/17(20060101);

  • 代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人何淑珍;江裕强

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2022-08-23 03:31:36

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