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Method and device for depositing thin films of monocrystalline silicon on an arbitrary substrate by electronic bombardment

机译：通过电子轰击在任意衬底上沉积单晶硅薄膜的方法和装置

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公开/公告号FR1449900A

专利类型
公开/公告日1966-05-06

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申请/专利权人
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申请/专利号FR19650024100
发明设计人 BALKANSKI MINKO;BALKANSKI MINKO;
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申请日1965-07-09
分类号C30B23/06;
国家 FR
入库时间 2022-08-23 14:49:51

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