在CMOS源漏掺杂时进行多晶硅栅注入的方法

摘要

本发明公开了一种在CMOS源漏掺杂时进行多晶硅栅注入的方法，多晶硅栅上形成有硅化钨和氮化硅，侧墙形成后，包括步骤：生长第一氧化层；淀积第二多晶硅层；淀积第三氧化层；对第三氧化层进行平坦化，将多晶硅栅上的氮化硅暴露出来；在多晶硅栅和源漏区中同时进行源漏离子注入；去除第三氧化层、第二多晶硅和第一氧化层；对注入离子进行热退火激活。本发明能使杂质离子同时注入到顶部形成有硅化钨和氮化硅的多晶硅栅和源漏区中，同时能避免源漏区中注入的结深太深。