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齐隆;
四川仪表六厂;
离子注入; CMOS; 工艺; 门阵列;
机译:由于离子注入技术工艺的小型化,Cmos Lsi中的离子注入技术变得更加困难。
机译:适用于40 nm以下CMOS器件的新型多晶硅栅极工程技术,采用激光热处理工艺
机译:利用沟道离子注入的自对准反阱掺杂技术及其在0.25 / spl mu / m CMOS工艺中的应用
机译:异构集成CMOS / GaN工艺技术中的完全集成四路淘汰架构
机译:CMOS技术在硅光电倍增传感器中的应用
机译:利用模糊语言变量全图在信息技术在刺绣工艺品质量控制中的应用
机译:利用高能离子注入技术开发CmOs(互补金属氧化物半导体)工艺
机译:基于新型多金属层互连替换介质的铁电电容器集成技术在最新CMOS工艺中的超密集嵌入式SRAM中的应用
机译:多晶硅栅极扩展设计方法,可提高双应力衬里工艺流程中的CMOS性能
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