光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备

摘要

本申请实施例提供一种光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备，涉及半导体技术领域，光刻机的控制系统包括检测单元、加热单元以及控制单元。本申请实施例通过在光刻机内设置检测单元、加热单元以及控制单元，当控制单元判断出晶圆在光刻机内完成曝光工艺后的停留时间大于预设时长时，会控制加热单元对晶圆进行加热，及时地处理晶圆上光刻胶表面残留水滴，防止残留水滴在光刻胶上造成缺陷，提高晶圆的良率。