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全球光刻机发展概况以及光刻机装备国产化

         

摘要

文章以光刻原理为引子,介绍光刻设备的系统结构,解读光刻机行业的发展概况,重点介绍光刻机装备国产化的发展之路,最后,文章提出中国半导体装备业国产化的顶层设计框架.

著录项

  • 来源
    《无线互联科技》 |2018年第19期|110-111118|共3页
  • 作者单位

    上海工程技术大学 材料工程学院,上海 201620;

    上海工程技术大学 材料工程学院,上海 201620;

    上海工程技术大学 材料工程学院,上海 201620;

    上海工程技术大学 材料工程学院,上海 201620;

    上海工程技术大学 材料工程学院,上海 201620;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

    光刻; 光刻设备; 装备; 国产化;

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