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一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法

摘要

本发明公开了一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法,该方法针对大规模集成电路,提供了通用性强的焊点失效分析方法,该方法依次对外焊点、内焊点、电路进行检查,寻找缺陷,进而通过内部焊点的能谱分析得到内部焊点的成分,最终得到内部焊点发生缺陷的原因,本发明的可靠性较高、稳定性较强,对于大规模集成电路的失效分析具有明确的指导意义,采用该步骤进行分析的大规模集成电路,可以严格排除因为焊点问题造成的失效。极大提升大规模集成电路的定位准确性。同时,可以增加到大规模集成电路失效分析的分析流程中,具有极高的研究价值。

著录项

  • 公开/公告号CN112540286A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202011345477.5

  • 发明设计人 毕志伟;李扬;

    申请日2020-11-25

  • 分类号G01R31/28(20060101);G01R31/303(20060101);G01R31/308(20060101);G01R31/52(20200101);G01N23/00(20060101);G01N21/956(20060101);H01L21/66(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人安彦彦

  • 地址 710075 陕西省西安市高新路28号

  • 入库时间 2023-06-19 10:22:47

说明书

【技术领域】

本发明属于半导体器件可靠性领域,具体涉及一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法。

【背景技术】

随着数字化发展,大规模集成电路逐渐成为失效分析的主流标的,其中一半以上大规模IC均采用BGA倒封焊封装结构。由于结构复杂的原因,该类电路因为焊点问题所产生的异常开路、短路、功能失效等失效模式难以测试和分析。

长期以来,对于大规模集成电路的开封都是采用化学开封,开封后其焊点往往溶于酸液,导致无法分析焊点与印制板之间的接触问题,以及焊点本身存在的工艺等问题。进而使部分因焊点原因而失效的问题被归结于芯片缺陷问题,造成误判,由于芯片缺陷问题本身无法精确定位,这种误判更加难以发现,从而在后期的应用中屡次发生,这都是由于定位不准确引起。

【发明内容】

本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点,提供一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法,该方法通过多个步骤分析,解决了难以判断出因内部焊点失效,导致芯片失效的问题。

为达到上述目的,本发明采用以下技术方案予以实现:

1.一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法,包括以下步骤:

步骤1,对集成电路的外焊点进行外观检查,判断外焊点是否存在缺陷,若存在缺陷,对缺陷进行处理后进行步骤2,若不存在缺陷,直接进行步骤2;所述集成电路通过BGA倒封焊进行封装;

步骤2,对集成电路的内焊点进行X光检查,判断内焊点是否存在缺陷,若内焊点存在缺陷,记录存在缺陷的位置后进行步骤3,若不存在缺陷,直接进行步骤3;

步骤3,对集成电路的电路进行超声扫描及透射检查,判断电路是否存在缺陷;

步骤4,对集成电路的外焊点进行I-V特性测试,判断端口是否存在异常开路、短路或漏电;若存在上述缺陷,进行步骤5,若不存在上述缺陷,进行功能测试后进行步骤5;

步骤5,对集成电路的电路进行制样,得到制样后的集成电路;

步骤6,对制样后的集成电路进行研磨,研磨后露出内部焊点;

步骤7,观察集成电路中所有的内部焊点,找到存在缺陷的内部焊点;

步骤8,通过能谱分析,确定缺陷的内部焊点的组成成分;

步骤9,根据成分分析结果,确定有缺陷的内部焊点的熔融温度,进而确定内部焊点发生缺陷的类型及原因;

所述集成电路通过BGA倒封焊进行封装。

本发明的进一步改进在于:

优选的,步骤1中,所述外焊点的缺陷包括裂纹、沾污、焊点缺失和焊点间粘连。

优选的,步骤1中,当外焊点被沾污时,去掉沾污;当外焊点的焊点间粘连时,去除粘连。

优选的,步骤2中,内焊点的缺陷包括内焊点间的粘连、内焊点的缺失,以及某一个内焊点的颜色浅于其他内焊点。

优选的,步骤3中,电路存在的缺陷包括开裂和分层。

优选的,步骤4中,I-V特性测试为判断端口对地端和端口对电源端的I-V特性。

优选的,步骤4中,若端口未存在异常开路、短路或漏电,则继续对电路进行电参数和功能测试。

优选的,步骤5中,制样过程为通过树脂包裹芯片,制样时,外部焊点向下。

优选的,步骤9中,所述内部焊点的缺陷类型包括缺失和熔融,发生缺陷的原因包括焊接温度高以及组分配比错误。

优选的,步骤9结束后,还包括以下步骤:

步骤10,对试验结果进行机理分析;

步骤11,检查芯片表面。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

本发明公开了一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法,该方法针对大规模集成电路,提供了通用性强的焊点失效分析方法,该方法依次对外焊点、内焊点、电路进行检查,寻找缺陷,进而通过内部焊点的能谱分析得到内部焊点的成分,最终得到内部焊点发生缺陷的原因,本发明的可靠性较高、稳定性较强,对于大规模集成电路的失效分析具有明确的指导意义,采用该步骤进行分析的大规模集成电路,可以严格排除因为焊点问题造成的失效。极大提升大规模集成电路的定位准确性。同时,可以增加到大规模集成电路失效分析的分析流程中,具有极高的研究价值。

进一步的,当外焊点存在缺陷时,需要对外焊点进行处理,便于进行下面的步骤,防止当在后续的I-V特性测试时,因为外焊点存在缺陷对I-V特性测试造成影响。

进一步的,初步判断内焊点的缺陷,为步骤7中找出内部焊点的缺陷提供初步的支持。

进一步的,对电路进行缺陷分析,以排除外部缺陷导致的短路影响到对内焊点的判断,进而发生错判

进一步的,对端口进行I-V特性分析,以定位哪些内焊点之间存在异常短路现象,如果短路的端口之间没有外焊点粘连等缺陷,则可以判定为内焊点短路。

进一步的,若端口未存在异常及缺陷,对电路进行功能测试,更为精准的为电路进行测试,找出潜在的缺陷。

进一步的,制样过程中外部焊点向下,便于后续的研磨步骤。

进一步的,在确定导致缺陷的原因后,进行机理分析,为后续制作过程中避免此类缺陷的出现做准备。

【附图说明】

图1为实施例的BGA封装外部焊点形貌图;

图2为实施例的电路整体X光形貌图;

图3是实施例的内焊点X光形貌图;

图4是实施例的电路超声扫描形貌图;

图5是图4放大后的扫描形貌图;

图6是实施例的内焊点全貌图;

图7是实施例的内焊点局部放大形貌图;

图8是实施例的内部粘连形貌图;

图9是实施例的内部异常粘连形貌图;

图10是实施例有缺陷的内焊点成份部位扫描电镜图;

图11是本发明的流程图。

【具体实施方式】

下面结合附图对本发明做进一步详细描述:

在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制;术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性;此外,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本发明公开了一种用于三维BGA倒封焊IC焊点失效的分析方法,本发明所适用的电路为三维BGA倒封焊型集成电路,外在失效模式表现为开路短路或者功能失效的电路。

本发明提供的适用于采用三维BGA封装的大规模集成电路的焊点失效分析方法,参见图11,包括如下过程:

1.进行严格的外焊点外观检查,包括如下细节:

(1).外焊点间管壳是否存在微小裂纹以及沾污等因素,如有沾污,去掉沾污;如存在裂纹,但电路I-V特性不存在开路现象,则不予处理,进行下一步。如果有开路现象,则也进行下一步,如果后期未发现内部焊点空缺,则判定裂纹是导致开路的原因。

(2).外焊点是否存在缺失或焊点间粘连;若有粘连,去除粘连。

2.对内部BGA焊点(以下简称内焊点)进行X光检查,主要检查项目如下:

(1).内焊点间是否存在淌锡所致的粘连现象。

(2).内焊点是否存在缺失。

(3).内焊点是否存在颜色明显较其余焊点偏浅的现象(焊点尺寸不够)。

该步骤为初步确定内焊点缺陷的步骤,为辅助步骤。

3.对电路进行超声扫描及透射检查,主要检查项目如下:

(1).电路是否存在外部观察不到的开裂现象;

(2).电路是否存在明显的分层现象。

该步骤的开裂和分层对应的下面I-V特性测试的开路现象,如果有开裂或分层现象,且下一步特性测试中测试出存在开路情况,则开路情况有可能是电路的开裂或分层造成的,但依旧不能排除是后续的内焊点造成的,如果下步特性测试中存在开路情况,但本步骤中不存在开裂和分层现象,说明芯片中存在内焊点。

4.对外焊点进行I-V特性测试,具体测试方法为:

(1).所有端口对地端(GND)的I-V特性,是否存在异常开路,短路或漏电现象。

(2).所有端口对电源端(VCC)的I-V特性,是否存在异常开路,短路或漏电现象。

若端口不存在上述缺陷,且当端口外焊点未遭到明显破坏时,对电路进行电参数与功能测试,进行辅助分析,进一步核实是否存在上述缺陷;若端口存在上述缺陷,则进行下述步骤5,不再进行功能测试。

5.对电路进行制样,通过树脂把芯片包裹起来,用于下一步的淹没制样时外部焊点朝下,便于研磨。

6.对电路进行研磨,研磨时逐步将外焊点,PCB板研磨掉,露出内部焊点。

7.对内部焊点通过立体和金像显微镜进行观察,重点观察X光或声扫过程中出现异常的部位,是否存在焊点的缺失,焊点之间的粘连,焊点形态是否正常等因素。

8.对存在缺陷的内焊点进行能谱成份分析,分析存在缺陷的内焊点成份。

9.根据成份分析结果,推算出内焊点熔融温度。进而判断焊点发生缺失或熔融,是由于外部焊接温度过高造成,还是由于内焊点工艺不精确(内焊点制造的工艺组分配比精度不够),造成比例不当,进而耐高温不合格所致。

10.根据试验结果进行机理分析。

11.如有必要,继续进行芯片表面检查。

实施例

电路采用典型BGA倒封焊加印制板封装。其外观形貌见图1所示。

1.外观检查

参见图1,对BGA进行外观检查,外部焊点分布均匀,形态正常,未见外部焊点存在粘连及沾污等异常现象。

2.X光检查

对其焊点进行X光检查,发现印制板部分不存在异常,内部焊点存在大小不均等变形现象。见图2和图3所示。

3.超声扫描

对该电路进行超声透射扫描,未见内部基板存在分层现象。电路未见存在微小裂纹,具体形貌见图4和图5所示。

4.I-V特性测试

在370A型晶体管特性曲线图示仪上对这只电路各个引出端进行I-V特性测试,发现电源-地之间接近短路,电阻为0.7欧姆。

由于电路电源与地之间已经短路,功能测试已经失去意义,因此不再进行功能测试。

6.电路制样

使用环氧树脂对电路进行制样,外焊点向下。

7.电路研磨

对电路进行研磨,边研磨边在显微镜下观察,直到内焊点露出。

8.内部焊点检查

焊点露出时,未见存在异常,在逐步深入研磨的过程中,发现内焊点出现明显粘连现象。初步判断为内焊点熔融造成,如图6、图7、图8和图9所示。

9.能谱成份

对焊点进行能谱成份分析,分析内焊点成份,发现焊球为铅锡焊料,见图10及表1所示。其中,焊料成份中铅:锡约为3:1。

表1内焊点成份表

10.成份分析计算

根据焊料成份比例,可以推算出内焊点熔融温度为220摄氏度。使用者在使用该电路时,采用回流焊,峰值温度达到了240摄氏度,因此可以初步判断,由于焊接温度过高,造成了电路失效。

11.失效机理分析。

该电路为短路失效。

该电路底部印制板上的焊球未见连锡、沾污等异常、通过X光对印制板部分进行检查,结果未见异常。故初步排除短路部位位于印制板内部的可能;通过X光对芯片下方焊点进行检查,发现部分焊点有变形现象。

对芯片表面进行超声扫描检查,未发现存在分层现象。对电路制样研磨后,对芯片表面焊球进行检查,发现芯片下方有若干处存在连锡现象。

芯片下方焊点为柱状焊料,装配时倒扣在基板上,经过高温过程,键合点焊料融化,使芯片和基板形成软钎焊连接结构,然后通过工艺填充形成焊接键合区、键合点的保护和加强结构;

经成份分析,其焊料为铅锡焊料,该种焊料熔点为200摄氏度以上,如果焊接温度高于该度时,焊料熔化在空腔或分层内溢出,造成键合点之间短路和焊料溢出后键合区焊料不足开路,以及焊料不足再凝固后填充料空洞等现象;

根据研磨后发现的内焊点连锡现象,结合电路在焊接后出现内部电源短路的原始失效现象情况分析,该只BGA封装型电路的失效是由于电路焊接时温度超过内部铅锡焊料温度,内部焊料熔融,造成电路失效。

结合该只电路原始失效情况(焊接后失效),该电路为外部焊接温度过高,导致芯片内部焊料熔融,进而使电源-地之间短路而失效。

本发明属于半导体器件可靠性领域,涉及复杂半导体集成电路的失效分析问题,特别是适用于采用三维BGA封装的大规模集成电路的焊点失效分析问题,可用于对该类电子器件进行精准分析定位,从而对其生产工艺或应用提供重要参考。该方法可行性较高,解决了部分三维BGA封装电路难以进行失效分析的问题,且兼顾了实施的简便性及准确性,是失效分析方法的一种突破性进展。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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