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一种部分P型GaN帽层RESURF GaN基肖特基势垒二极管

摘要

本发明涉及一种部分P型GaN帽层RESURF GaN基肖特基势垒二极管,其特征在于,包括:衬底层,所述衬底层上的缓冲层,所述缓冲层上的沟道层,所述沟道层上的势垒层,所述势垒层两端的阴极和复合阳极,与所述复合阳极相连且位于所述势垒层上的部分P型GaN帽层,覆盖在所述势垒层、所述部分P型GaN帽层、所述复合阳极、所述阴极上的钝化层,其中,所述沟道层与所述势垒层形成异质结,所述P型GaN帽层与所述势垒层形成PN结,所述阴极为阴极欧姆接触,所述复合阳极包括阳极欧姆接触和阳极肖特基接触。本发明实施例引入部分P型GaN帽层,并采用复合阳极,制备出具有低正向开启电压、高反向击穿电压的GaN基肖特基势垒二极管。

著录项

  • 公开/公告号CN108711578A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201810496680.9

  • 申请日2018-05-22

  • 分类号

  • 代理机构西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王海栋

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 06:58:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/06 申请日:20180522

    实质审查的生效

  • 2018-10-26

    公开

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