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公开/公告号CN108034360A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-15
原文格式PDF
申请/专利权人 北京创昱科技有限公司;
申请/专利号CN201711376766.X
发明设计人 王乐军;宋士佳;李琳琳;刘桂勇;姜宏;彭东阳;
申请日2017-12-19
分类号C09G1/02(20060101);B24B29/02(20060101);B24B57/00(20060101);
代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;
代理人王莹;吴欢燕
地址 102209 北京市昌平区北七家镇宏福创业园15号院
入库时间 2023-06-19 05:16:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-08
实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20171219
实质审查的生效
2018-05-15
公开
机译: 一种抛光液,用于抛光组件,尤其是晶片,特别是用于化学-机械抛光此类结构元件的抛光液
机译: GaAs晶片的镜面抛光液和镜面抛光方法
机译: 使用无氧化剂的抛光液在铜层中执行第二抛光步骤的cmp程序
机译:使用硬垫的高度平面化cmp技术的开发:提高Cmp工艺中晶片的面内抛光均匀性
机译:激光辅助缺陷检测系统在硬磁盘抛光中化学机械平面化(CMP)浆料开发中的应用
机译:使用化学机械抛光(CMP)的新型亚微米间隙制造技术:在横向场发射器件(FED)中的应用
机译:CMP(第3报告)中晶片和抛光垫浆料流动的可视化关于晶片和抛光垫互换区域的循环流动的存在
机译:基于统计分析和基于传感器的用于半导体应用的铜覆盖晶片的电化学机械抛光(ECMP)建模。
机译:硅晶片双面抛光系统中基于激光的厚度控制
机译:卡尔曼平板理论和赫兹压力在改进双环试验中对GaAs晶片弯曲的应力分析的应用
机译:电镀抛光液中铬电镀液和磷酸和硫酸中铬酸的在线自动滴定