纳米SiO2抛光液的制备及其在蓝宝石CMP中的应用

摘要

为了满足LED等先进电子产品对单晶蓝宝石衬底表面超精密加工的要求,制备了一种纳米氧化硅抛光液,并研究了其在LED蓝宝石衬底CMP中的应用.首先采用扫描电子显微镜(SEM)、激光粒度仪、大颗粒计数仪等手段对抛光液的物性参数进行了表征,然后采用轮廓仪(FRT)、表面缺陷检测设备(Candela)、原子力显微镜(AFM)等对抛光后的蓝宝石衬底表面进行了表征.结果表明,制备的纳米氧化硅抛光液在LED蓝宝石衬底表面具有优异的抛光性能,达到了无划伤、无腐蚀坑,且粗糙度小于0.2 nm的光滑表面.