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熊伟; 储向峰; 董永平; 张王兵; 叶明富; 孙文起;
安徽工业大学化学化工学院,安徽,马鞍山243002;
SiC; 蓝宝石晶片; 化学机械抛光; 分散剂;
机译:用研磨带开发钛合金抛光液:抛光液中的成分对抛光性能的影响
机译:基于二氧化硅浆料的蓝宝石晶片(0001)化学机械抛光性能研究
机译:十字图案抛光垫化学机械抛光不同浆料浓度下蓝宝石晶片的磨料去除深度研究
机译:微电子器件制备中的CMP抛光技术和抛光液的研究
机译:蓝宝石化学机械抛光中用于杂化微粒的亚10纳米二氧化硅微粒的新特性
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:用于单晶碳化硅晶片的Fe和al2O3颗粒浸渍抛光垫的研究
机译:碳化硅和蓝宝石长丝力学性能的研究
机译:碳化硅,蓝宝石,锗,硅和晶片晶片抛光模板座
机译:蓝宝石抛光液及蓝宝石抛光方法
机译:用于抛光液体组合物的蓝宝石衬底以及抛光蓝宝石衬底的方法。
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