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一种抛光液及应用该抛光液对锑化镓晶片进行抛光的方法

摘要

本发明公开了一种抛光液及应用该抛光液对锑化镓进行抛光的方法,本发明的抛光液对锑化镓材料抛光去除速率高,抛光后晶片表面光洁平坦,并且无崩边掉渣,且本发明的抛光工艺方法简单,人为控制因素较少,可用率大大提高,有利于降低成本。

著录项

  • 公开/公告号CN106590439B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201611114093.6

  • 发明设计人 程雨;肖钰;李春领;

    申请日2016-12-07

  • 分类号

  • 代理机构工业和信息化部电子专利中心;

  • 代理人于金平

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路4号

  • 入库时间 2022-08-23 10:26:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-05

    授权

    授权

  • 2017-05-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20161207

    实质审查的生效

  • 2017-05-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20161207

    实质审查的生效

  • 2017-04-26

    公开

    公开

  • 2017-04-26

    公开

    公开

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