公开/公告号CN106590439B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-02-05
原文格式PDF
申请/专利权人 中国电子科技集团公司第十一研究所;
申请/专利号CN201611114093.6
申请日2016-12-07
分类号
代理机构工业和信息化部电子专利中心;
代理人于金平
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路4号
入库时间 2022-08-23 10:26:04
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-05
授权
授权
2017-05-24
实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20161207
实质审查的生效
2017-05-24
实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20161207
实质审查的生效
2017-04-26
公开
公开
2017-04-26
公开
公开
机译: 抛光液,浓缩液,使用抛光液对处理过的物品进行抛光的制造方法以及使用抛光液对基质进行抛光的方法
机译: 一种抛光液,用于抛光组件,尤其是晶片,特别是用于化学-机械抛光此类结构元件的抛光液
机译: 抛光液,浓缩液,使用抛光液生产抛光制品的方法以及使用抛光液进行基质抛光的方法