光学邻近校正及/或蚀刻偏差的晶圆级电性测试

摘要

本发明揭示了一种光学邻近校正及/或蚀刻偏差的晶圆级电性测试，其将具有相同电阻的三个参考电阻器与测试结构连接于具有惠斯通电桥(Wheatstone Bridge)设计的电路中。该电路电性耦接于输入端与接地端之间。在该输入端所施加的电压导致该电路的两个中点之间的电性特征差异表示对于OPC或蚀刻偏差的该测试结构的设计需要校正动作。