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包含底部有直径缩减的金属支柱的半导体器件的金属化系统

摘要

在复杂半导体器件的金属化系统中,可以钉状组态来形成金属支柱(271),例如铜支柱,以便减少作用于该金属化系统的最大机械应力,同时提供连接至封装基板的必要接触面。基于经适当组态的抗蚀剂掩膜,可得到该钉状组态。

著录项

  • 公开/公告号CN102428551A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-04-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 先进微装置公司;

    申请/专利号CN201080018399.6

  • 发明设计人 F·福斯特;K·弗罗贝格;T·沃纳;

    申请日2010-02-22

  • 分类号H01L21/60;H01L23/485;

  • 代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-18 05:04:15

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