首页> 中国专利> 具有氮化硅电荷陷阱层的非挥发性内存

具有氮化硅电荷陷阱层的非挥发性内存

摘要

本发明提供一种闪存装置及形成该闪存装置的方法。在一版本中,该闪存装置包括一掺杂氮化硅层,其具有包含碳、硼或氧的一掺杂剂。该掺杂氮化硅层在该层中产生较高数目且较高浓度的氮及硅悬键且提供一非挥发性内存装置的单位单元的电荷固持能力及电荷保持时间的增加。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-07

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L27/115 申请公布日:20110921 申请日:20091021

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-01-04

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L27/115 变更前: 变更后: 申请日:20091021

    著录事项变更

  • 2011-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20091021

    实质审查的生效

  • 2011-09-21

    公开

    公开

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