镶嵌腐蚀方法中各向异性氮化物的腐蚀工艺

摘要

一种在多层结构的氮化硅层中各向异性地腐蚀沟槽的工艺和腐蚀剂气体组分。此腐蚀剂气体组分具有包括聚合剂、氢源、氧化剂和稀有气体稀释剂的腐蚀气体。氧化剂最好包括含碳的氧化剂组分和氧化剂－稀有气体组分。控制等离子体的方向性的电源与用来激活腐蚀剂气体的电源隔离。在制造金属氧化物半导体场效应晶体管的工艺中的氮化物腐蚀步骤中,可以使用此腐蚀剂气体。