公开/公告号CN1273866C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-09-06
原文格式PDF
申请/专利权人 国际商业机器公司;
申请/专利号CN00106557.2
申请日2000-04-12
分类号G03F7/004(20060101);H01L21/311(20060101);H01L21/336(20060101);H01L21/762(20060101);H01L21/8234(20060101);
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人王永刚
地址 美国纽约
入库时间 2022-08-23 08:58:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-06-15
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/004 授权公告日:20060906 终止日期:20100412 申请日:20000412
专利权的终止
2006-09-06
授权
授权
2000-11-01
公开
公开
2000-09-06
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 在镶嵌蚀刻方案中对氧化物和光刻胶层具有高选择性的各向异性氮化物蚀刻工艺
机译: 在DAMASCENE蚀刻方案中具有高选择性的氧化物和光致抗蚀剂层的各向异性氮化物蚀刻工艺
机译: 在DAMASCENE蚀刻方案中具有高选择性的氧化物和光致抗蚀剂层的各向异性氮化物蚀刻工艺