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【2h】

Cycling of implantation step and remote plasma process step for nitride spacer etching applications.

机译：用于氮化物间隔蚀刻应用的植入步骤和远程等离子体工艺步骤的循环。

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Nicolas Loubet; Cécile Jenny; Camille Petit-Etienne; Erwine Pargon;
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年度 2020
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