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带外延生长的合并源/漏的多鳍场效应晶体管及制造方法

摘要

本发明实施例包括具有外延生长的合并源极/漏极的多鳍型场效应晶体管结构及其形成方法。实施例可包括在基底基板上方的外延绝缘体层,在该外延绝缘体层上方的栅极结构,在该栅极结构下方的半导体鳍,以及在该外延绝缘体层上、邻近该半导体鳍的该端部的外延源极/漏极区域。该外延绝缘体层可以由生长于半导体基底基板上的外延稀土氧化物形成。实施例还可包括在半导体鳍的端部上、位于半导体鳍端部和外延源极/漏极区域之间的鳍延伸区域。在一些实施例中,在栅极结构下方的半导体鳍的端部可以形成凹陷。

著录项

  • 公开/公告号CN103872131A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国际商业机器公司;

    申请/专利号CN201310629718.2

  • 申请日2013-11-29

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/08(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人焦玉恒

  • 地址 美国纽约阿芒克

  • 入库时间 2023-12-17 00:10:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-01

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/78 申请公布日:20140618 申请日:20131129

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20131129

    实质审查的生效

  • 2014-06-18

    公开

    公开

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