一种氮化硅CMP抛光液及其抛光供液设备

摘要

本发明公开了一种氮化硅CMP抛光液，由以下重量份的原料制备而成：纳米磨料40～60份、氧化剂2～6份、表面活性剂1～6份、保湿剂2～4份、酸性pH调制剂2～4份、增速剂4～8份、去离子水30～50份、抛光液分散助剂2～6份，本发明的有益效果是：本发明中的抛光液，使用成膜性、锁水能力较强的聚乙烯醇或羟乙基纤维素作为保湿剂，增加了抛光液的保水能力，在使用过程中成功的减少了水分的挥发，抑制了抛光液因水分蒸发而干燥结晶，并且以纳米级别的水溶硅溶胶来进行抛光加工，可实现低应力、低损伤、超光滑加工。同时，其供液设备操作方便、结构简单，不仅能实现高效的供液，还能对抛光废液进行有效地回收。