Photoluminescence; Silicon carbides; Neutron irradiation; Transients; Optical properties; Spectroscopy; Neutral; Hall effect; Theses; Electrical properties; Nitrogen; Neutrons; P type semiconductors;
机译:不同生长速率下沉积的4H碳化硅同质外延层的晶体学缺陷和表面粗糙度的形貌和反射法研究
机译:反应烧结碳化硅和单晶4H碳化硅阳极氧化抛光表面性能的比较分析
机译:基于4H的碳化硅基快上检测系统,中子阈值为0.4 meV
机译:优化熔融KOH蚀刻法的缺陷启示和评价4H碳化硅
机译:4H碳化硅散装晶体,外延层和功率装置的缺陷结构分析
机译:表面和散装缺陷对CDTE和相关化合物非接触式电阻率测量的影响
机译:用4H碳化硅探测器对D-D中子和稳定性测量的检测器响应