机译:在157 nm半导体光刻中用作防护薄膜的新型氢氟烃聚合物:透明性的基础
fluoropolymer; hydrofluorocarbon; 157nm; photolithography; optical absorbance; pellicle;
机译:在157 nm半导体光刻中用作防护薄膜的新型氢氟烃聚合物:透明性的基础
机译:用于光刻的157 nm薄膜(薄膜):碳氟化合物的VUV和UV-C光解的机理研究
机译:基于新型1,3-全氟二恶唑的聚合物在157nm光刻中用作软聚合物膜
机译:纳米复合材料聚合物颗粒用于157nm光刻法
机译:2-三氟甲基丙烯酸酯的合成,共聚研究和157 nm光刻应用。
机译:聚合物半导体:基于邻苯二甲酰亚胺的高迁移率聚合物半导体用于高效非富勒烯太阳能电池功率转换效率超过13%(Adv。Sci。2/2019)
机译:双(氟代醇)单体和聚合物:改进的透明性含氟聚合物光致抗蚀剂,用于157 nm的半导体光刻
机译:半导体中的电磁感应透明度