ArF准分子光刻机使半导体制造工艺到达32 nm Gigaphoton公司发布了用于下一代半导体制造的世界上最强大的氟化氩(ArF)准分子激光器

摘要

@@ Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90 W、重复频率为6000 Hz的新型氟化氩(ArF)准分子激光器.该激光器可用于浸没式光刻机,其可使制作半导体晶片的制程仅为32 nm.目前,全球芯片制造商刚开始将45 nm制程技术投入量产,据估计32 nm制程技术将于2009年投入使用.