掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
其他
>
Conference on Photomask and X-ray mask technology
Conference on Photomask and X-ray mask technology
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
全选(
0
)
清除
导出
1.
New figure-fracturing algorithm for high-quality variable-shaped e-beam exposure data generation
机译:
用于高质量变形电子波束曝光数据生成的新图形裂缝算法
作者:
Hiroomi Nakao
;
Koichi Moriizumi
;
Kinya Kamiyama
;
Masayuki Terai
;
Hisaharu Miwa
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
2.
Detectability and printability of programmed defect reticle for 256-Mb DRAM
机译:
编程缺陷掩模版256 MB DRAM的可检测性和可印刷性
作者:
Jin-Hong Park
;
Han-Ku Cho
;
Yong-Hoon Kim
;
Kyung-Hee Lee
;
Hee-Sun Yoon
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
3.
Characteristics of Ta4B/SiC x-ray mask blanks
机译:
TA4B / SIC X射线面罩坯料的特性
作者:
Ryou Ohkubo
;
Tsutomu Shoki
;
Hideaki Mitsui
;
Noromichi Annaka
;
Yoh-ichi Yamaguchi
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
4.
PBS process optimization for bow-wake phenomena
机译:
PBS处理弓箭现象的优化
作者:
Do Y. Kim
;
Y.I. Lee
;
W.S. Kim
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
5.
Development of advanced process for halftone phase-shift mask fabrication with electron-beam exposure systems
机译:
具有电子束曝光系统的半色调相移掩模制造的先进过程的开发
作者:
Minoru Komada
;
Masa-aki Kurihara
;
Shiho Sasaki
;
Takamitsu Makabe
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
6.
Electron-beam mask writing system for 0.25-um device generation
机译:
0.25-UM设备生成的电子束掩模写入系统
作者:
Kazui Mizuno
;
Katsuhiro Kawasaki
;
Hiroyuki Itoh
;
Hidetoshi Satoh
;
Yasuhiro Someda
;
Norio Saitou
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
7.
Laser mask repair technology for 256-Mb DRAM reticle
机译:
激光面罩修复技术256 MB DRAM掩盖
作者:
Tsutoma Haneda
;
Tetsuya Shimanaka
;
Koji Wakabayashi
;
Yoichi Yoshino
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
8.
DOF enhancement effect of attenuated assist feature
机译:
减毒辅助功能的DOF增强效果
作者:
Shinji Ishida
;
Shuichi Hashimoto
;
Tadao Yasuzato
;
Kunihiko Kasama
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
9.
Improvement of pattern position accuracy with the LMS2020
机译:
用LMS2020改进模式位置准确性
作者:
T.Okada
;
H.Yamazaki
;
Yoji Tono-oka
;
Haruo Kinoshita
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
10.
Photomask blanks enhancement by optimizing resist baking and coating for advanced e-beam reticle fabrication
机译:
通过优化先进电子束掩模罩制造的抗蚀剂烘烤和涂层来增强光掩模坯料
作者:
Takao Higuchi
;
Hideo Kobayashi
;
Kazuhide Yamashiro
;
Keishi Asakawa
;
Yasunori Yokoya
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
11.
Current status of x-ray mask manufacturing at the Microlithographic Mask Development Center
机译:
微型光谱面罩开发中心X射线面膜制造的当前状态
作者:
Kurt R. Kimmel
;
Patrick J. Hughes
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
12.
New concept for negative-tone electron-beam resist
机译:
负色调电子束抗蚀剂的新概念
作者:
Yasumasa Wada
;
Motofuni Kashiwagi
;
H.Tanaka
;
A.Kawata
;
Kiyoto Tanaka
;
Y.Yamamoto
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
13.
Performance of i- and g-line phase-shift measurement system MPM-100
机译:
I型和G线相移测量系统MPM-100的性能
作者:
Hiroshi Fujita
;
Hisatake Sano
;
Haruhiko Kusunose
;
Hideo Takizawa
;
Koji Miyazaki
;
Naoki Awamura
;
Takahiro Ode
;
Daikichi Awamura
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
14.
Evaluation of light resistance of pellicle membrane in the environment with solvent
机译:
溶剂薄膜膜耐光性评价
作者:
T.Shirasaki
;
Meguru Kashida
;
Yoshihiro Kubota
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
15.
Focused ion-beam imaging of defects on deep-UV single-layer halftone masks
机译:
深紫色单层半色调面罩的缺陷聚焦离子束成像
作者:
Hiroko Nakamura
;
Haruki Komano
;
K.Sugihara
;
T.Koike
;
Iwao Higashikawa
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
16.
Reticle consideration for 0.30-um design rules: between aspiration and actuality
机译:
掩盖0.30-UM设计规则的掩盖考虑:愿望与现实之间
作者:
Mircea V. Dusa
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
17.
Simulation of x-ray mask displacement by absorber and membrane stress
机译:
吸收器和膜应力仿真X射线掩模位移
作者:
Tsuneaki Ohta
;
Shuichi Noda
;
Masanori Kasai
;
Hiroshi Hoga
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
18.
CD metrology microscope SiSCAN 7325TQ for back-side measurement
机译:
CD计量显微镜SISCAN 7325TQ用于后侧测量
作者:
Masaru Morita
;
Shigeru Tachikawa
;
Mikio Iida
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
19.
Bilevel resist process for 1-Gb DRAM reticles
机译:
1-GB DRAM灯泡的双纤维抗蚀剂工艺
作者:
Kotaro Shirabe
;
Eiichi Hoshino
;
Keiji Watanabe
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
20.
Exposure of 895i resist using a vector scan Gaussian electron-beam lithography system
机译:
使用矢量扫描高斯电子束光刻系统曝光895I抗蚀剂
作者:
Sheldon M. Kugelmass
;
Joseph Mitchell
;
John T. Poreda
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
21.
DUV printability of laser repairs on binary and attenuated phase-shift masks
机译:
DUV在二进制和衰减相移掩模上的激光修复的可印刷性
作者:
James A. Reynolds
;
Franklin M. Schellenberg
;
Michael S. Hibbs
;
Dennis Hayden
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
22.
Mask technology for 0.18-um device generation
机译:
用于0.18-UM设备的掩模技术
作者:
Jung-Min Sohn
;
Seong-Woon Choi
;
B.G. Kim
;
Han-Ku Cho
;
Hee-Sun Yoon
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
23.
Chemically amplified resist process for 0.25-um generation photomasks
机译:
0.25-UM代光掩模的化学放大抗蚀剂过程
作者:
Mikio Katsumata
;
Hiroichi Kawahira
;
Minoru Sugawara
;
Satoru Nozawa
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
24.
Geometrical library recognition for mask data compression
机译:
掩码数据压缩的几何库识别
作者:
Robert Veltman
;
Isao Ashida
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
25.
Pattern-data preparation method to enchance high-throughput mask fabrication in variable-shaped e-beam writing system
机译:
图案数据准备方法,以增强可变形电子束写入系统中的高通量掩模制造
作者:
Shigehiro Hara
;
Eiji Murakami
;
S.Magoshi
;
K.Koyama
;
Hirohito Anze
;
Yoji Ogawa
;
A.Kabeya
;
S.Ooki
;
T.Saito
;
T.Fujii
;
S.Sakamoto
;
Hiromi Suzuki
;
M.Yano
;
Sadakazu Watanabe
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
26.
Investigation of phase-shift mask shifter defect printability and inspection techniques
机译:
相移掩模移位器缺陷可印刷性和检查技术的研究
作者:
Yasuhiro Koizumi
;
Daniel Lopez
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
27.
Development of deep-UV and excimer pellicle (membrane longevity)
机译:
深紫色和准分子薄膜的发展(膜寿命)
作者:
Motofuni Kashiwagi
;
H.Matsuzaki
;
N.Nakayama
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
28.
Detection and printability of random and programmed pinholes on Cr photomasks
机译:
在Cr光掩模上的随机和编程针孔的检测和可印刷性
作者:
Franklin D. Kalk
;
Anthony Vacca
;
Charles Howard
;
Linard Karklin
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
29.
Highly stiff x-ray mask blank with heat resistance and inertness to chemicals
机译:
高度僵硬的X射线面罩坯料,具有耐热性和惰性化学品
作者:
Kenji Marumoto
;
Hideki Yabe
;
Sunao Aya
;
Koji Kise
;
Seiichi Tanji
;
Nobuyuki Minami
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
30.
Subquarter-micron lithography with dual-trench-type alternating PSM
机译:
具有双沟式交替PSM的次级晶体光刻
作者:
Hideki Kanai
;
Kenji Kawano
;
Satoshi Tanaka
;
E.Shiobara
;
Masami Aoki
;
I.Yoneda
;
Shinichi Ito
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
31.
Fabrication of dense contact patterns using halftone phase-shifting mask with off-axis illumination
机译:
使用半色调相移掩模制造具有偏离轴照明的半色调相移掩模
作者:
Hyoung-Joon Kim
;
Jong-Wook Kye
;
Dae-Youp Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Ho-Young Kang
;
Young-Bum Koh
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
32.
Evaluation of phase and transmittance error on deep-UV halftone phase-shift mask
机译:
深紫色半色调相移掩模对阶段和透射率误差的评估
作者:
Suigen Kyoh
;
Hideaki Sakurai
;
Takayuki Iwamatsu
;
Akiko Yamada
;
Iwao Higashikawa
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
33.
High-resolution deep-UV laser mask repair based on near-field optical technology
机译:
基于近场光学技术的高分辨率深紫色激光掩模修复
作者:
Klony S. Lieberman
;
Hanan Terkel
;
M.Rudman
;
A.Ignatov
;
Aaron Lewis
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
34.
Resolution enhancement with thin Cr for chrome mask making
机译:
用薄CR为镀铬掩模制作的分辨率增强
作者:
Byung-Cheol Cha
;
Seong-Woon Choi
;
Jin-Min Kim
;
Han-Ku Cho
;
Jung-Min Sohn
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
35.
Die-to-database inspection of 256-Mb DRAM reticles
机译:
模具到数据库检查256 MB DRAM标准
作者:
Yair Eran
;
Nissim Elmaliach
;
Yonatan Lehaman
;
Eyal Mizrahi
;
Gideon Rossman
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
36.
Defect printability analysis in electron-beam cell projection lithography
机译:
电子束电池投影光刻中的缺陷可印刷性分析
作者:
Katsuyuki Itoh
;
Hiroshi Yamashita
;
Takahiro Ema
;
Hiroshi Nozue
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
37.
Manufacturing feasibility of OPC masks for 0.25-um rule devices
机译:
OPC掩模的制造可行性为0.25-UM规则设备
作者:
Hiroichi Kawahira
;
Mikio Katsumata
;
Keisuke Tsudaka
;
Akihiro Ogura
;
Manabu Tomita
;
Satoru Nozawa
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
38.
Automatic photomask defect classification method
机译:
自动光掩模缺陷分类方法
作者:
Kyoji Yamashita
;
Kazuto Matsuki
;
Kiminobu Akeno
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
39.
Study on x-ray irradiation stability of absorber materials for x-ray masks by stress measurement
机译:
压力测量X射线掩模吸收材料X射线照射稳定性研究
作者:
Kinya Ashikaga
;
Shinji Tsuboi
;
Yoshio Yamashita
;
Shinji Sugihara
;
Yoshio Gomei
;
Tsutomu Shoki
;
Yoh-ichi Yamaguchi
;
Tsuneaki Ohta
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
40.
Recent progress in repair accuracy of the focused ion-beam mask repair system
机译:
重点离子束掩模修复系统修复精度的最新进展
作者:
Kazuo Aita
;
Anto Yasaka
;
Tadashi Kitamura
;
Hiroshi Matsumura
;
Yasushi Satoh
;
Hiroshi Nakamura
;
Junji Fujikawa
;
Katsuhide Tsuchiya
;
Shigeru Noguchi
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
41.
Diamond membrane for x-ray lithography
机译:
用于X射线光刻的金刚石膜
作者:
Hitoshi Noguchi
;
Meguru Kashida
;
Yoshihiro Kubota
;
Takayuki Takarada
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
42.
Transmittance measurement with interferometer system
机译:
具有干涉仪系统的透射率测量
作者:
Hideo Takizawa
;
Haruhiko Kusunose
;
Naoki Awamura
;
Koji Miyazaki
;
Takahiro Ode
;
Daikichi Awamura
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
43.
Parallel photomask pattern data conversion and verification system
机译:
并行光屏幕模式数据转换和验证系统
作者:
Yasunori Kanai
;
Toshiji Shimada
;
Kazunari Sekigawa
;
Makoto Nishi
;
Yasufumi Ishihara
;
Jun-ichi Mori
;
Satoshi Akutagawa
;
Kazuhiko Takahashi
;
Toru Miyauchi
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
44.
Ta-Si-O absorptive shifter for the attenuated phase-shifting mask
机译:
用于减毒相移掩模的TA-SI-O吸收换档器
作者:
Y.S. Yan
;
C.C. Cheng
;
C.L. Lin
;
J.Y. Gan
;
T.B. Wu
;
Laurent C. Tuo
;
Jia-Jinq Wang
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
45.
(LaNiO3)x(Ta2O5)1-x oxide thin films for attenuated phase-shifting mask blank
机译:
(Lanio3)X(Ta2O5)1-x氧化物薄膜,用于减弱相移掩模坯料
作者:
C.C. Cheng
;
T.B. Wu
;
J.Y. Gan
;
Laurent C. Tuo
;
Jia-Jinq Wang
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
46.
Evaluation of performance of attenuated phase-shift mask using simulation
机译:
使用仿真评估减毒相移掩模的性能
作者:
Yuh-ichi Fukushima
;
Nobuhiko Fukuhara
;
Kosuke Ueyama
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
47.
Cleaning process for x-ray masks
机译:
X射线面罩的清洁过程
作者:
Yasunao Saitoh
;
Takashi Ohkubo
;
Ikuo Okada
;
Misao Sekimoto
;
Tadahito Matsuda
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
48.
Evaluation of the MEBES 4500 reticle writer to commercial requirements of 250-nm design rule IC devices
机译:
评估MEBES 4500掩模版作者对250-NM设计规则IC器件的商业需求
作者:
Frank E. Abboud
;
David Alexander
;
Thomas P. Coleman
;
Allen Cook
;
Leonard Gasiorek
;
Robert J. Naber
;
F.Raymond
;
Charles A. Sauer
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
49.
Pattern shift error induced by coating and developing
机译:
涂层和开发引起的模式移位错误
作者:
Shusuke Yoshitake
;
Kazuto Matsuki
;
Ryoichi Hirano
;
Toru Tojo
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
50.
Direct phase-shift measurement with transmitted deep-UV illumination
机译:
通过传输的深紫色照明直接相移测量
作者:
Haruhiko Kusunose
;
Naoki Awamura
;
Hideo Takizawa
;
Koji Miyazaki
;
Takahiro Ode
;
Daikichi Awamura
会议名称:
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》
|
1996年
意见反馈
回到顶部
回到首页