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Reticle consideration for 0.30-um design rules: between aspiration and actuality

机译：掩盖0.30-UM设计规则的掩盖考虑：愿望与现实之间

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来源
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》|1996年||共11页
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作者
Mircea V. Dusa;
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正文语种
中图分类自动化技术、计算机技术;
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