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机译:用于减毒相移掩模的TA-SI-O吸收换档器
Y.S. Yan; C.C. Cheng; C.L. Lin; J.Y. Gan; T.B. Wu; Laurent C. Tuo; Jia-Jinq Wang;
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机译:Fabry-Perot结构用于ArF和F_2光刻中的衰减相移掩模
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机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
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机译:由于改善了成像,所以相移掩模结构和使具有吸收/衰减的移位器具有吸收/衰减特性侧壁的方式
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