法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-17
授权
授权
2014-03-12
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/26 申请日:20130726
实质审查的生效
2014-02-12
公开
公开
机译: 制造半色调相移掩模坯,半色调相移掩模坯,半色调相移掩模以及形成用于光掩模坯的薄膜的装置的方法
机译: 光掩模坯容器,光掩模坯的容纳方法,光掩模坯的存储方法,光掩模坯的运输方法和光掩模的制造方法
机译: 光掩模坯容器,光掩模坯的容纳方法,光掩模坯的存储方法,光掩模坯的运输方法和光掩模的制造方法