要解决的问题:提供一种光掩模坯料容纳容器,该容器能够抑制由于所容纳的光掩模坯料的气体污染和灰尘污染而引起的抗蚀剂膜的灵敏度变化,并且易于储存和运输。
解决方案:用于容纳在其上形成有抗蚀剂膜的光掩模坯料的容器至少包括容器主体,盖和气体吸收盒,其中该气体吸收盒容纳有机气体吸收剂和/或碱性气体。吸附剂,并且可拆卸地附接到容器主体的侧面或底面之一以及盖的上表面。
版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2006154020A
专利类型
公开/公告日2006-06-15
原文格式PDF
申请/专利权人 SHIN ETSU CHEM CO LTD;
申请/专利号JP20040341561
申请日2004-11-26
分类号G03F1/14;B65D81/26;H01L21/027;B65D85/86;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:56:05