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Pattern-data preparation method to enchance high-throughput mask fabrication in variable-shaped e-beam writing system

机译：图案数据准备方法，以增强可变形电子束写入系统中的高通量掩模制造

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来源
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》|1996年||共8页
会议地点
作者
Shigehiro Hara; Eiji Murakami; S.Magoshi; K.Koyama; Hirohito Anze; Yoji Ogawa; A.Kabeya; S.Ooki; T.Saito; T.Fujii; S.Sakamoto; Hiromi Suzuki; M.Yano; Sadakazu Watanabe;
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正文语种
中图分类自动化技术、计算机技术;
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