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Chemically amplified resist process for 0.25-um generation photomasks

机译：0.25-UM代光掩模的化学放大抗蚀剂过程

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来源
《Conference on Photomask and X-ray mask technology》|1996年||共9页
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作者
Mikio Katsumata; Hiroichi Kawahira; Minoru Sugawara; Satoru Nozawa;
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正文语种
中图分类自动化技术、计算机技术;
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