机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:通过区域控制的曝光后烘烤来改善负性化学放大抗蚀剂的掩模制造的全局临界尺寸均匀性
机译:通过区域控制的曝光后烘烤来改善负性化学放大抗蚀剂的掩模制造的全局临界尺寸均匀性
机译:通过使用具有非化学放大抗蚀剂和曝光后烘烤的可变形状电子束光刻技术来制造高分辨率掩模
机译:化学放大后的抗蚀剂在曝光后烘烤过程中抗蚀剂组分对图像传播的影响
机译:极紫外光刻中掩模的粗糙度引起的线边缘粗糙度
机译:从封面开始:使用高分辨率适形相掩模制造复杂的三维纳米结构
机译:杂交非化学扩增抗蚀剂含有锑作为吸收增强剂的EUV照相研究